一种测量基坑参数的基坑支护结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种测量基坑参数的基坑支护结构,包括插设于基坑内部的两个立板,两个所述立板相对的侧壁之间设有用于测量基坑参数的检测机构,两个所述立板的下端分别固定连接有多个立柱,多个所述立柱的内部分别设有用于保持立板稳定的支护机构。本实用新型结构合理,可以通过两个第一转杆以及第二转杆完成对立板的支撑,避免在测量基坑参数数据的时候出现固定不牢的情况,也可以对两个立板之间的距离进行调节,进而使得两个立板可以以不同的角度插设于基坑内,从而可以得到多组不同角度的测量数据。

基本信息
专利标题 :
一种测量基坑参数的基坑支护结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021351957.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-10
授权号 :
CN212670590U
授权日 :
2021-03-09
发明人 :
刘真刘士洋丁燕平李宁杰周元辅向坤
申请人 :
重庆国翔新材料有限公司
申请人地址 :
重庆市大渡口区北部新区金渝大道89号4幢1-15-1
代理机构 :
贵阳易博皓专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
田常娟
优先权 :
CN202021351957.8
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04  E02D1/00  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2021-03-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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