一种反应烧结碳化硅双进料室旋流器
授权
摘要
本实用新型公开了一种反应烧结碳化硅双进料室旋流器，包括两个平行且间隔设置的旋流器装置，两个旋流器装置之间设置有反应烧结碳化硅一体成型的进料装置，两个旋流器装置与进料装置连接，旋流器装置与进料装置相通，进料装置包括进料室，进料室内具有两个分流通道和一个进料通道，两个分流通道分别连通两个旋流器装置，两个分流通道在进料室内相交形成凸出的分隔部，本实用新型采用上述技术方案，构思巧妙，结构合理，整体结构简单，制造方便，可以使两个旋流器安装一个进料室，就可以满足同时对两个旋流器进行供料，增加了分离效果和产能，能够大大减少制造和使用成本。
基本信息
专利标题 ：
一种反应烧结碳化硅双进料室旋流器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021408210.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-17
授权号 ：
CN212943530U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
郝鹏
申请人 ：
山东中鹏特种陶瓷有限公司
申请人地址 ：
山东省潍坊市山东潍坊市坊子区经济发展区平柳院
代理机构 ：
北京华智则铭知识产权代理有限公司
代理人 ：
李树祥
优先权 ：
CN202021408210.1
主分类号 ：
B04C5/28
IPC分类号 ：
B04C5/28 B04C5/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B04
用于实现物理或化学工艺过程的离心装置或离心机
B04C
应用自由旋流的装置，如旋流器
B04C5/00
旋流的轴向可以反向的装置
B04C5/24
它的复式装置
B04C5/28
用于并联的流道
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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