一种激光光能回收型光刻机
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型公开了一种激光光能回收型光刻机,其结构包括下机体、底座、凹槽、蓄电池、充电控制器、操作器、电源线、上机体、可视窗、第一净化装置、流通装置、运作组件、掩模台、物镜、曝光台、微调机构和第二净化装置,所述下机体底端与底座焊接,所述下机体左端设置有凹槽,本实用新型具有以下有益效果,通过在运作组件处的第一壳管、第二壳管和第三壳管内壁分别设置金属片层,而金属片层内壁设置太阳能薄膜电池层,达到了通过加设散射光转电部件以减少电量损耗的有益效果;并且通过在上机体顶端分别设置第一净化装置和第二净化装置,达到了加设多重处理部件以提高抽取空气洁净度的有益效果。
基本信息
专利标题 :
一种激光光能回收型光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021462204.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-22
授权号 :
CN212276215U
授权日 :
2021-01-01
发明人 :
李俊毅陈舜钦姚恒裕李雅瑜林雅芳
申请人 :
福建安芯半导体科技有限公司
申请人地址 :
福建省泉州市南安市石井镇院前村2号
代理机构 :
泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
易敏
优先权 :
CN202021462204.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-06-15 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20210602
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 福建安芯半导体科技有限公司
变更后权利人 : 北京新毅东科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 362300 福建省泉州市南安市石井镇院前村2号
变更后权利人 : 100000 北京市石景山区政达路6号院4号楼12层1212
登记生效日 : 20210602
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 福建安芯半导体科技有限公司
变更后权利人 : 北京新毅东科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 362300 福建省泉州市南安市石井镇院前村2号
变更后权利人 : 100000 北京市石景山区政达路6号院4号楼12层1212
2021-01-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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