一种合成炉测温结构
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摘要

本实用新型涉及半导体材料领域,公开了一种合成炉测温结构,包括设置于堵头上的测温器,测温器位于合成炉内壁与石英管外壁之间,且测温器沿合成炉轴向延伸,测温器的探头与石英管的外壁之间具有间隙,堵头上开设有测温孔,测温器设置于测温孔内。本实用新型能够解决由于在合成炉上打孔造成热量流失,温场紊乱的问题,以提高产品制成率。

基本信息
专利标题 :
一种合成炉测温结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021467889.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-22
授权号 :
CN213481565U
授权日 :
2021-06-18
发明人 :
许振华罗福敏李勇刘留苏小平
申请人 :
威科赛乐微电子股份有限公司
申请人地址 :
重庆市万州区万州经开区高峰园B02
代理机构 :
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 :
张晨
优先权 :
CN202021467889.1
主分类号 :
G01K1/14
IPC分类号 :
G01K1/14  G01K1/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01K
温度测量;热量测量;未列入其他类目的热敏元件
G01K1/14
支撑;固定装置;在特殊位置安装温度计的布置
法律状态
2021-06-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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