一种铜带表面的铬化处理装置
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摘要

本实用新型公开了一种铜带表面的铬化处理装置,包括工作台,工作台的顶部前后两侧对称开设有位移槽,两组位移槽的内腔均转动连接位移丝杠,两组位移丝杠贯穿工作台右侧壁的一端上均固接有皮带轮,两组皮带轮之间设置有皮带,工作台的左侧壁设置有正反转电机,两组位移丝杠上均连接有位移升降组件,两组位移升降组件之间设置有槽体,槽体的内腔固接有隔热板,槽体的内腔通过隔热板分隔有烘干室和铬化室,烘干室的内腔左右两侧壁均设置有电加热板,槽体的顶部盖合有盖板,盖板的底部中间固接有承载导轨,承载导轨的底部前后两端均设置有夹持机构,本实用新型结构设计合理,便于对铜带表面进行铬化处理,提高产品的抗氧化性,增强其使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种铜带表面的铬化处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021469957.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-23
授权号 :
CN212864971U
授权日 :
2021-04-02
发明人 :
公成张淑兰公建强
申请人 :
连云港申元电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省连云港市经济技术开发区大浦工业区金桥路36号
代理机构 :
南京新慧恒诚知识产权代理有限公司
代理人 :
李晓静
优先权 :
CN202021469957.8
主分类号 :
C23C22/00
IPC分类号 :
C23C22/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22/00
表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
法律状态
2021-04-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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