用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备

授权

摘要

该实用新型公开了一种用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备，用于聚焦离子束制样的样品台包括：承载支架，承载支架适于承载第一尺寸晶圆；承载台，承载台设在承载支架上且适于承载第二尺寸晶圆，其中，第一尺寸晶圆大于第二尺寸晶圆，承载台用于承载第二尺寸晶圆的承载面不超出承载支架用于承载第一尺寸晶圆的承载面，且在承载支架的厚度方向上，承载用于承载第二尺寸晶圆的承载面不低于承载支架用于承载第一尺寸晶圆的承载面。由此根据本实用新型实施例的用于聚焦离子束制样的样品台，能够适用于不同尺寸大小的半导体晶圆样品进行制样，适用范围更广，成本低且也无需做其它额外的评估。

基本信息

专利标题：

用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021481265.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-23

授权号：

CN212844589U

授权日：

2021-03-30

发明人：

邹锭宋世涛

申请人：

长江存储科技有限责任公司

申请人地址：

湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

孙佳胤

优先权：

CN202021481265.5

主分类号：

G01N1/28

IPC分类号：

G01N1/28 B01L9/02