一种氮化处理系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种氮化处理系统，其包括氨气裂解炉、氮化炉、裂解气供气管路、第一裂解气回气管路、第二裂解气回气管路及第三裂解气回气管路。氨气在氨气裂解炉内裂解，裂解气经裂解气供气管路进入至氮化炉，氮化炉内未反应完的裂解气经第一裂解气回气管路、第二裂解气回气管路、第三裂解气回气管路中的至少一路返回至氨气裂解炉进行再次裂解。本实用新型提升了氨气的利用率，节省了氮化成本，且提升了氮化炉的氮化效果。
基本信息
专利标题 ：
一种氮化处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021492320.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-24
授权号 ：
CN212688166U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
崔中赫
申请人 ：
东宇东庵（无锡）热处理有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山区畅惠路6-8、6-9号
代理机构 ：
无锡永乐唯勤专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙际德
优先权 ：
CN202021492320.0
主分类号 ：
C23C8/24
IPC分类号 ：
C23C8/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/08
仅用一种元素的
C23C8/24
渗氮
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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