一种N-甲基吡咯烷酮生产用的除杂装置
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摘要
本实用新型公开了一种N‑甲基吡咯烷酮生产用的除杂装置,包括装置本体,所述装置本体的内部设置有除杂腔与加热腔,所述装置本体的表面上合作有安装区,所述装置本体的表面螺纹连接有上盖,所述上盖的表面设置有进料口,所述安装区的内侧安装有电机,所述电机的转动轴穿入除杂腔内侧固定连接有安装框。该装置通过加热可以降低N‑甲基吡咯烷酮中的水分含量,通过第二分子筛、第一分子筛对N‑甲基吡咯烷酮中夹带的杂质进行过滤,并通过第一活性炭滤网与第二活性炭滤网吸附其中杂质,有效降低N‑甲基吡咯烷酮中的重金属离子浓度及水分。
基本信息
专利标题 :
一种N-甲基吡咯烷酮生产用的除杂装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021564393.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-31
授权号 :
CN213467050U
授权日 :
2021-06-18
发明人 :
方飞李军锋卢明辉蓝军郭香友廖燕萍
申请人 :
江西盛源新材料有限公司
申请人地址 :
江西省赣州市大余县新华工业小区
代理机构 :
北京圣州专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王振佳
优先权 :
CN202021564393.6
主分类号 :
B01D36/00
IPC分类号 :
B01D36/00 B01D15/00 B01D33/11 B01D33/41 B01D1/00 C07D207/267
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D36/00
过滤回路或过滤器与其他分离装置的组合
法律状态
2021-06-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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