一种双光路同步观测纹影系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种双光路同步观测纹影系统，包括光源、平面镜、双刀口、CCD相机和四个凹面镜；光源形成两条光路；其特征在于，CCD相机数量为一个，CCD相机位于直接向CCD相机反射光的凹面镜的焦点上，平面镜位于直接向平面镜反射光的凹面镜的焦点上；在平面镜和CCD相机之间设置双刀口，两条光路分别进入双刀口的两个刀口；平面镜和直接向CCD相机反射光的凹面镜位于不同光路上。该系统的两条光路同时进入同一个CCD相机，因此CCD相机能够同时获得被测流场的两个二维平面上的信息，实现被测流场的三维同步观测。
基本信息
专利标题 ：
一种双光路同步观测纹影系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021625523.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-07
授权号 ：
CN213068628U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
田亮袁稼辀
申请人 ：
河北工业大学
申请人地址 ：
天津市红桥区丁字沽光荣道8号河北工业大学东院330#
代理机构 ：
天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
付长杰
优先权 ：
CN202021625523.2
主分类号 ：
G01N21/45
IPC分类号 ：
G01N21/45 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率；影响相位的性质，例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法，利用纹影方法
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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