一种真空箱体密封装置
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摘要

本实用新型公开了一种真空箱体密封装置,涉及检漏真空箱的领域,解决了通过施压的方式容易使腔体变形、密封带受损而导致箱体的密封性越来越差的技术问题。它包括上腔和下腔,上腔的端部设有上折弯体,下腔的端部设有下折弯体,下折弯体上敷设有密封带;上折弯体的端部设有第一上折弯部,第一上折弯部的下端设有第一电磁铁;下腔的侧壁通过定位块安装有第二电磁铁;下折弯体与下腔之间设置有弹性支撑组件。本实用新型通过电磁铁的吸力为上腔和下腔间的密封提供压合力,使真空箱体密封,避免了现有技术中对上腔施压的密封方式容易使腔体变形、密封带受损的问题,提高了腔体与密封带的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种真空箱体密封装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021644825.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-10
授权号 :
CN212482822U
授权日 :
2021-02-05
发明人 :
张磊
申请人 :
湖北锐诚真空科技有限公司
申请人地址 :
湖北省荆门市钟祥市南湖新区协企联盟产业园24号厂房
代理机构 :
广州海心联合专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
马赟斋
优先权 :
CN202021644825.4
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  F16J15/06  F16J15/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-02-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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