一种用于真空炉的反射隔热装置
授权
摘要
本申请涉及一种用于真空炉的反射隔热装置，包括用于安装在真空炉的前炉门上的前反射屏、用于安装在真空炉的炉壳内的炉壳反射屏以及用于安装在真空炉的后炉门上的后反射屏，真空炉的前炉门关闭时，前反射屏、炉壳反射屏和后反射屏之间形成封闭空间，在炉壳反射屏的外部设有限制炉壳反射屏产生形变的支撑框架。本申请具有提高反射隔热装置保温隔热的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种用于真空炉的反射隔热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021648936.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN213273699U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
张永军
申请人 ：
北京北方华创磁电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市平谷区马坊工业园区西区247号
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
赵万凯
优先权 ：
CN202021648936.2
主分类号 ：
F27B5/05
IPC分类号 ：
F27B5/05 F27B5/06 F27D1/18 H01F41/02
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉；干馏炉；其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
F27B5/05
在真空中
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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