一种晶界扩散工艺用真空反应系统
授权
摘要
本申请涉及晶界扩散工艺技术领域，尤其是涉及一种晶界扩散工艺用真空反应系统，包括能够对工件进行加热的真空炉，真空炉的炉体包括内部中空的炉壳，真空炉的外侧设置有快冷装置，快冷装置包括一端密封的供水管和回水管，供水管与炉壳内部的空腔、回水管与炉壳内部的空腔均连通有联通管，本申请具有加快烧结设备的冷却速度，实现烧结设备的快速冷却的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种晶界扩散工艺用真空反应系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021648959.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN212482067U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
张永军
申请人 ：
北京北方华创磁电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市平谷区马坊工业园区西区247号
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
赵万凯
优先权 ：
CN202021648959.3
主分类号 ：
F27B5/05
IPC分类号 ：
F27B5/05 F27B5/14 F27B5/16 F27D1/12 F27D1/18 H01F41/02
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉；干馏炉；其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
F27B5/05
在真空中
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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