一种洁净室专用晶圆自动上下料设备
授权
摘要
本实用新型公开一种洁净室专用晶圆自动上下料设备，晶圆自动上下料设备包括上料机台，所述上料机台一侧设有缓存机台，缓存机台一侧设有下料机台，下料机台与上料机台左右对称，金属烤架前方设有RFID红外射频设备，安装框架一侧设有二维码读头，缓存组件包括镜像分布的晶圆缓存提升机构，晶圆缓存提升机构一侧设有入口导向装置，晶圆缓存提升机构之间设有皮带输送机构，皮带输送机构内设有晶圆定位对中机构，吸盘型真空抓手一端设有吸盘组件，晶圆预对准器上同样设有轴向分布的吸盘组件。本实用新型采用特殊的真空吸盘，预对准器上同样设有真空吸盘，设有多种工作模式，兼容多种晶圆料盒，能自动识别放置料盒种类，减少了人工误操作带来的风险。
基本信息
专利标题 ：
一种洁净室专用晶圆自动上下料设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021659040.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-11
授权号 ：
CN215266225U
授权日 ：
2021-12-21
发明人 ：
龚昱王伟忠李耀孟赵超刘红军
申请人 ：
华芯（嘉兴）智能装备有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市平湖市钟埭街道福善线钟南段288号智创园G3栋北侧1-4楼
代理机构 ：
广州京诺知识产权代理有限公司
代理人 ：
于睿虬
优先权 ：
CN202021659040.4
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2021-12-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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