一种利用二氧化氯处理含氰废水的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种利用二氧化氯处理含氰废水的装置,包括废水原水池、二氧化氯发生器、破氰一级池、破氰二级池、第一水射器以及第二水射器;所述废水原水池通过动力水管与第一水射器连接,第一水射器通过管道与破氰一级池连接;所述破氰一级池通过烧碱电磁泵添加烧碱;所述破氰一级池与第二水射器通过管道连接,第二水射器通过管道与破氰二级池连接;所述破氰二级池通过第一硫酸电磁泵添加硫酸;所述二氧化氯发生器用于产生气态二氧化氯,并通过气体管道与第一水射器、第二水射器连接。本实用新型的废水处理装置能高效去除氰离子,使废水达到国家排放标准。
基本信息
专利标题 :
一种利用二氧化氯处理含氰废水的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021720571.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-18
授权号 :
CN213294832U
授权日 :
2021-05-28
发明人 :
刘国强艾代平
申请人 :
中山品高电子材料有限公司
申请人地址 :
广东省中山市火炬开发区张家边炬业路6号
代理机构 :
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 :
黄媛君
优先权 :
CN202021720571.X
主分类号 :
C02F1/76
IPC分类号 :
C02F1/76 C02F101/18
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/72
氧化法
C02F1/76
用卤素或卤素化合物
法律状态
2021-05-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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