本实用新型涉及一种金属抛光装置，其包括其包括底座、滑动支架及抛光组件，底座包括底板及侧板，底板上开设有滑动槽，侧板位于底板的相对两侧；滑动支架包括放置板、伸缩气缸、支撑板及滑轨，放置板上开设有放置槽，放置槽内设置有电磁铁；伸缩气缸位于放置板与支撑板之间，所述滑轨与所述滑动槽滑动连接；所述抛光组件包括砂轮、连接轴及抛光驱动件，所述连接轴与所述砂轮插接，且贯穿所述侧板并与所述侧板转动连接，所述抛光驱动件与所述连接轴连接，以通过所述连接轴带动所述砂轮转动。本实用新型提供的金属抛光装置通过伸缩气缸调整工件与砂轮之间的位置，以减化工件粗抛后再精抛过程中重新定位的步骤。