一种可改变抛光方向的单晶硅单面抛光装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种可改变抛光方向的单晶硅单面抛光装置,可改变抛光方向的单晶硅单面抛光装置,包括支撑结构、万向轮、调节结构、抛光轮,所述支撑结构的底端固定安装有万向轮,所述支撑结构的上端固定安装有调节结构,所述调节结构的一侧固定安装有抛光轮,所述调节结构包括有第一电机、转动杆。本实用新型,通过第一电机带动转动杆转动,使得滑块通过连接板带动伸缩杆进行转动,从而使得进行抛光工作时,可调节单晶硅的抛光程度,且同时通过旋转杆带动转动盘转动,使得承载板带动抛光轮进行方向调节,通过承载板底端的减震,使得在进行调整方向时,有效的提高装置的稳定性,继而提高单晶硅的抛光质量,从而使用方便。

基本信息
专利标题 :
一种可改变抛光方向的单晶硅单面抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021755154.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN213106228U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
陈峰
申请人 :
浙江众晶电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
代理机构 :
温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
钱磊
优先权 :
CN202021755154.9
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B41/02  B24B41/04  B24B47/12  B24B47/20  B24B47/22  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213106228U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332