基坑地下水监测系统
授权
摘要

本申请涉及一种基坑地下水监测系统,包括底座、与底座上表面固定的竖杆以及与底座上表面固定的水位管,所述水位管侧壁靠近其下端的位置上开设有多个进水孔,所述水位管内设有漂浮物,所述竖杆上端固定有横板,所述横板底面固定有测距仪,所述测距仪的镜头与水位管的上端开口位置对应,所述横板上固定有与测距仪电连接的无线信号发射器,所述进水孔处的水位管上套设有拦污罩,所述拦污罩侧壁上开设有多个渗水孔,所述横板上设有用于升降拦污罩的升降组件。本申请能够使得基坑内的水顺利从进水孔进入水位管内,提高基坑液位检测的精度。

基本信息
专利标题 :
基坑地下水监测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021757808.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN213233380U
授权日 :
2021-05-18
发明人 :
张学成
申请人 :
安徽同方工程咨询有限公司
申请人地址 :
安徽省六安市人民路青年广场阳光大厦商住楼105、205铺
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021757808.1
主分类号 :
E02D1/00
IPC分类号 :
E02D1/00  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D1/00
现场基础土壤的勘测
法律状态
2021-05-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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