光学系统及投影设备
授权
摘要
本实用新型公开一种光学系统及投影设备，所述光学系统沿光线传输方向依次包括显示单元、第一镜组、第二镜组以及反射镜；所述第一镜组与所述第二镜组均具有正光焦度；所述光学系统满足以下关系：0.01≤|φ100|≤0.02；0.005≤|φ200|≤0.015；其中，φ100表示所述第一镜组的光焦度，所述φ200表示所述第二镜组的光焦度。本实用新型提供一种光学系统及投影设备，旨在解决现有技术中投影设备的光学系统中光学透镜数量较多，导致投影设备体积过大、重量过重，组装效率低的问题。
基本信息
专利标题 ：
光学系统及投影设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021772272.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN212781466U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
全丽伟李建华
申请人 ：
中山联合光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区益围路10号1-3楼
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
宋朝政
优先权 ：
CN202021772272.0
主分类号 ：
G02B13/00
IPC分类号 ：
G02B13/00 G03B21/28 G03B21/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B13/00
为下述用途专门设计的光学物镜
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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