离子过滤装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种光阻去除工艺中的离子过滤装置，所述光阻去除工艺在反应腔室内进行，其特征在于，包括：适于放置在所述反应腔室内的多个过滤板，所述多个过滤板沿第一平面相互平行设置，每个所述过滤板上包括多个过滤孔，所述多个过滤板上的过滤孔相互配合形成沿第二方向导通的通孔，至少一个过滤板能够相对于其他过滤板在所述第一平面内移动或旋转以改变所述通孔的大小和位置分布，所述通孔用于阻止所述光阻去除工艺中所产生的离子通过；其中，所述第二方向垂直于所述第一平面。该离子过滤装置可以有效地阻止离子通过，提高了光阻去除过程的效率。
基本信息
专利标题 ：
离子过滤装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021793155.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
CN212675361U
授权日 ：
2021-03-09
发明人 ：
刘云飞
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
杜娟
优先权 ：
CN202021793155.2
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2021-03-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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