一种氮化炉投料装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种氮化炉投料装置，包括底板，所述底板的上表面从左至右依次固定安装有氮化炉、第一支撑杆、第二支撑杆、第一支撑柱和第二支撑柱，所述第一支撑柱和第二支撑柱的上端转动安装有传输带，所述第二支撑杆的外表面转动安装有放置台，所述放置台的上表面呈环形均匀设有若干个凹槽，所述放置台的下表面呈环形均匀设有若干个滑槽，所述放置台的下表面中部设有圆槽，所述滑槽靠近中心的一端均和圆槽连通，所述第一支撑杆的上端固定安装有固定板，所述固定板的上表面固定安装有电机，所述电机的输出端固定安装有转动杆，解决了现有装置需人工进料，且进料口易出现堆积现象，导致上料定位不精准，降低工作效率的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种氮化炉投料装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021806339.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-26
授权号 ：
CN213357720U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
章国平
申请人 ：
辽宁抚工实业有限公司
申请人地址 ：
辽宁省抚顺市望花区汪良桥西7#-2
代理机构 ：
沈阳友和欣知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨群
优先权 ：
CN202021806339.8
主分类号 ：
C23C8/24
IPC分类号 ：
C23C8/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/08
仅用一种元素的
C23C8/24
渗氮
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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