一种抛光结构
授权
摘要
本实用新型提供一种抛光结构，包括：抛光盘，所述抛光盘的一侧设有凹槽，所述抛光盘的另一侧限定有第一区域和第二区域，所述第二区域为环状，所述第一区域位于所述第二区域的内部，所述第一区域设置有第一调温结构，所述第二区域设有第二调温结构。通过第一调温结构和第二调温结构可以调节抛光盘上的第一区域和第二区域的温度，能够调节抛光盘的在径向方向上不同区域的温度，使得第一区域和第二区域的温度均匀，能够带走摩擦产生的热量，减小由于摩擦热导致的抛光垫和抛光液的温度变化，减小温度变化对抛光垫形态的影响以及抛光液性能的影响，提高抛光效果，提高硅片的表面的平坦度。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021809881.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-26
授权号 ：
CN212762959U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
赵晟佑
申请人 ：
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡影
优先权 ：
CN202021809881.9
主分类号 ：
B24D13/14
IPC分类号 ：
B24D13/14 B24D13/18
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D13/00
具有挠性作用的工作部分的轮，如抛光轮；及其固定件
B24D13/14
用其前面作用的
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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