氙准分子臭氧汽雾的一种二流体喷嘴的喷洒架构
授权
摘要
本发明涉及氙准分子臭氧汽雾的一种二流体喷嘴的喷洒架构，这种氙准分子臭氧汽雾的一种二流体喷嘴的喷洒架构是由封闭式氙准分子臭氧激发舱、压力气源供给装置、气体过滤装置、气体调压阀、二流体喷嘴作为必须部件，并且可以与气泵、水泵、分子筛制氧机、电磁阀、文丘里管、以及水箱、水罐、自来水供应端口为基本元器件构成，这种架构设计适用于冷藏库、室内、背负式臭氧消毒器、医疗垃圾臭氧消杀收集舱的集中传输式氙准分子光源臭氧发生器为核心技术的臭氧气体、臭氧汽雾的喷洒产品的架构，这是一种不会产生氮氧化合物有害气体的纯臭氧消杀装备的基础架构。
基本信息
专利标题 ：
氙准分子臭氧汽雾的一种二流体喷嘴的喷洒架构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021830451.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN214762402U
授权日 ：
2021-11-19
发明人 ：
李思思
申请人 ：
郑州圣华药物食品技术开发有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市惠济区常青路5号5楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021830451.5
主分类号 ：
A61L2/22
IPC分类号 ：
A61L2/22 A61L2/26 C01B13/11 A61L101/10
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/16
应用化学物质
A61L2/22
相物质，例如烟、气雾剂
法律状态
2021-11-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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