剪力墙、框架-剪力墙结构及抗震建筑
授权
摘要
本实用新型涉及建筑结构设计领域，尤其涉及一种剪力墙、框架‑剪力墙结构及建筑。该剪力墙用于抗震建筑中，剪力墙的厚度大于或等于300mm，剪力墙的高厚比为4‑8，相邻剪力墙在抗震建筑中的间距为D，抗震建筑的柱跨为d，D/d≤3，D≤20m；其中，任一剪力墙的底部承担的水平剪力小于或等于抗震建筑的底部承担的水平总剪力的15％；该框架‑剪力墙结构包括设置在抗震建筑外周的用于形成外框架结构的外框柱、外框梁和第一剪力墙；设置在抗震建筑内部的用于形成内框架结构的内框柱、内框梁和第二剪力墙；采用本方案的剪力墙或框架‑剪力墙结构的建筑，可以具有更好的抗侧移及抗扭刚度、施工简单和成本经济的优点。
基本信息
专利标题 ：
剪力墙、框架-剪力墙结构及抗震建筑
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021832684.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
CN213539275U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
唐匡政张建军
申请人 ：
深圳市建筑设计研究总院有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市福田区振华路8号设计大厦
代理机构 ：
广州德科知识产权代理有限公司
代理人 ：
万振雄
优先权 ：
CN202021832684.9
主分类号 ：
E04B1/00
IPC分类号 ：
E04B1/00 E04B2/56 E04B1/98 E04H9/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04B
一般建筑物构造；墙，例如，间壁墙；屋顶；楼板；顶棚；建筑物的隔绝或其他防护
E04B1/00
一般构造；不限于墙，例如，间壁墙，或楼板或顶棚或屋顶中任何一种结构
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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