一种植草井盖
授权
摘要

本实用新型涉及一种植草井盖,植草井盖包括底座以及盖体;盖体设置于底座上,具体的,先在井座上挖好与底座相适配的坑孔,然后将底座放置于挖好的坑孔上面,接着将盖体放置于底座上,底座用于托住盖体,对盖体起到支撑作用,防止盖体向下塌陷或脱底,提高植草井盖整体的稳定性以及牢固性。盖体与底座相适配,提高稳定性;通过设有加强部件,且加强部件与底座相接触,从而防止盖体向下塌陷或脱底,进一步提高植草井盖整体的稳定性以及牢固性。盖体上设有凹槽,凹槽用于植草,可以在盖体的凹槽内种植不同的植被,进一步提升绿化带、人行道以及园林的绿化效果,提升绿化带、人行道以及园林的美观性。

基本信息
专利标题 :
一种植草井盖
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021847026.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-28
授权号 :
CN213086871U
授权日 :
2021-04-30
发明人 :
张正明
申请人 :
福建业特实业有限公司
申请人地址 :
福建省福州市仓山区盖山镇浦口轧钢厂新村2号
代理机构 :
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
黄以琳
优先权 :
CN202021847026.7
主分类号 :
E02D29/14
IPC分类号 :
E02D29/14  A01G9/033  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物;挡土墙
E02D29/12
人孔井;其他检查室或人可进入的室;其附属物
E02D29/14
人孔或类似物的盖;盖的框架
法律状态
2021-04-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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