登机厅
授权
摘要
本实用新型公开了一种登机厅，登机厅包括：基层；搭建在所述基层上的双层登机室，所述双层登机室包括下层登机室和上层登机室，所述上层登机室开设有至少一个登机口，所述下层登机室开设有至少一个入口，所述双层登机室包括多个组装到一起的搭建模块，多个所述搭建模块能够分别单独加工成型；连接梯，所述连接梯用于连接所述下层登机室和上层登机室；设置于所述双层登机室外部的遮雨棚，且所述遮雨棚的遮雨空间连通所述下层登机室的至少一个入口，所述遮雨棚包括多个组装到一起的分棚模块，多个所述分棚模块能够分别单独加工成型。该登机厅可以有效地解决登机设施的搭建影响机场正常运行时间较长的问题。
基本信息
专利标题 ：
登机厅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021847920.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
CN213569411U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
解致荣
申请人 ：
民航机场规划设计研究总院有限公司
申请人地址 ：
北京市顺义区临空经济核心区融慧园6号楼3-83
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
王欢
优先权 ：
CN202021847920.4
主分类号 ：
B66F11/04
IPC分类号 ：
B66F11/04 B66F11/00 E04H1/12 E04F10/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B66
卷扬；提升；牵引
B66F
不包含在其他类目中的卷扬、提升、牵引或推动，如把提升力或推动力直接作用于载荷表面的装置
B66F11/00
其他类目不包含的专用提升装置
B66F11/04
用于移动式平台或工作室的，如车辆上的，用以使工作人员能到达他们所需要的位置进行工作
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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