洗抹布机构和基站

授权

摘要

本申请公开一种洗抹布机构和基站。洗抹布机构应用于基站中，包括底壳、清洗同步带以及同步带驱动组件。底壳形成有清洗槽，基站的储水系统向清洗槽供应清洗液。清洗同步带处于清洗槽中，清洗同步带的表面设有多个清洁齿。同步带驱动组件设于底壳且驱动清洗同步带转动。清洁齿用于将清洗槽中的清洗液带到清洗同步带的上表面，且对处于清洗同步带上表面的清洁机器人的抹布进行清洁。本申请提供的技术方案能够有效、快速地清洗清洁机器人的抹布。

基本信息

专利标题：

洗抹布机构和基站

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021851341.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-28

授权号：

CN213216760U

授权日：

2021-05-18

发明人：

杨勇李湘宜丁广强

申请人：

深圳市杉川机器人有限公司

申请人地址：

广东省深圳市南山区高新技术园北区北环大道9018号大族创新大厦A区5层501室

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

吕露

优先权：

CN202021851341.7

主分类号：

A47L11/40

IPC分类号：

A47L11/40