一种双层智能井盖
授权
摘要
本实用新型提供一种双层智能井盖，包括：井盖基座、上井盖、下井盖、锁体和无线模块；所述井盖基座内具有贯通道，所述贯通道内形成有凸出于所述贯通道内壁的支撑部；所述上井盖盖设于所述贯通道的顶端口，其底部形成有第一凸环；所述下井盖设置在所述贯通道内，所述下井盖底部抵接于所述支撑部的顶部，所述下井盖顶部抵接于所述第一凸环，所述下井盖、所述上井盖和所述第一凸环共同限制一容置腔；所述锁体设置在所述井盖基座上，所述控制模块和所述无线模块设置在所述容置腔内。本实用新型的双层智能井盖通过上下井盖的配合形成容置腔，减少了水和腐蚀气体与电子元件的接触，为电子元件提供较好的保护。
基本信息
专利标题 ：
一种双层智能井盖
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021896933.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-02
授权号 ：
CN214033794U
授权日 ：
2021-08-24
发明人 ：
尹瑞阳史玉洁袁志远吴恺陈修灯曾俊皓陈亮
申请人 ：
广东飞企互联科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市唐家湾镇软件园路1号生产加工中心1号五层1单元、3单元
代理机构 ：
广州骏思知识产权代理有限公司
代理人 ：
潘桂生
优先权 ：
CN202021896933.0
主分类号 ：
E02D29/14
IPC分类号 ：
E02D29/14
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物；挡土墙
E02D29/12
人孔井；其他检查室或人可进入的室；其附属物
E02D29/14
人孔或类似物的盖；盖的框架
法律状态
2021-08-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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