自动净化HVPE取片舱环境系统
授权
摘要
本实用新型公开了自动净化HVPE取片舱环境系统，它包括：反应腔（1）；取片舱（2）；所述取片舱安装于反应腔底部；闸阀（3），所述闸阀安装于反应腔底部和取片舱顶部之间；排气控制系统，所述排气控制系统分别与反应腔和取片舱连通。本实用新型的有益效果是本实用新型的有益效果是设计了一种含反应腔、闸阀、气动阀、泵、排气控制系统的装置，最大限度解决上、下片污染腔体环境而导致每次上、下片生长前几炉生长质量相对差等问题。
基本信息
专利标题 ：
自动净化HVPE取片舱环境系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021897595.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
CN213327929U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
李枝旺王亮
申请人 ：
镓特半导体科技（铜陵）有限公司
申请人地址 ：
安徽省铜陵市经济技术开发区天门山北道3139号
代理机构 ：
铜陵市嘉同知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
程玉霞
优先权 ：
CN202021897595.2
主分类号 ：
C30B25/08
IPC分类号 ：
C30B25/08 C30B25/14 C30B29/40
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/08
反应室；其所用材料的选择
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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