标准式离子镀膜系统
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体而言,涉及一种标准式离子镀膜系统。标准式离子镀膜系统包括主体模块和电源模块;主体模块包括主体框架、电控柜、镀膜室以及抽真空泵组,电控柜连接主体框架并形成主体骨架,主体骨架内部形成容置空间,镀膜室和抽真空泵组位于容置空间内;抽真空泵组和镀膜室分别与电源模块电连接。在安装过程中,由于电控柜、镀膜室以及抽真空泵组等主要功能模块集成于主体模块,在运输过程中无需对各个功能模块进行拆分,即保持了各个功能模块之间的连接,待运输至安装现场时,只需将电源模块与各个功能模块进行连接即可,节省了人力和时间,降低了离子镀膜系统对运输装置、安装场地以及安装人员的要求。
基本信息
专利标题 :
标准式离子镀膜系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021909349.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-03
授权号 :
CN213357728U
授权日 :
2021-06-04
发明人 :
依君粱惠鹏王君
申请人 :
江苏爱科斯真空科技有限公司
申请人地址 :
江苏省徐州市经济技术开发区杨山路8号金山桥办事处第一工业园办公楼318室
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
李翠
优先权 :
CN202021909349.4
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2021-06-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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