一种溶液氧化处理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种溶液氧化处理装置，包括：反应槽，用于盛装反应溶液；氧化还原电位检测装置，用于检测所述反应槽中溶液的氧化还原电位；氧化剂储槽，用于盛装向所述反应槽中加投参与氧化反应的氧化剂；自动检测投料控制装置，设置为根据时间和/或所述氧化还原电位检测装置检测反应槽中液体所得结果，控制将所述氧化剂储槽中的氧化剂加投到所述反应槽中的量。该装置能缩短去除溶液中的有机物和/或具有还原性的废液其氧化处理时间，确保处理溶液得到安全生产氧化并且处理效果达标。
基本信息
专利标题 ：
一种溶液氧化处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021916363.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-04
授权号 ：
CN214880478U
授权日 ：
2021-11-26
发明人 ：
叶旖婷叶涛
申请人 ：
叶旖婷
申请人地址 ：
广东省广州市海珠区宝岗大道268号中新大厦1808室
代理机构 ：
广州知友专利商标代理有限公司
代理人 ：
刘小敏
优先权 ：
CN202021916363.7
主分类号 ：
C02F1/76
IPC分类号 ：
C02F1/76 C02F1/72 C02F1/461 C02F101/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/72
氧化法
C02F1/76
用卤素或卤素化合物
法律状态
2021-11-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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