一种射线屏蔽结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种射线屏蔽结构，屏蔽室分为所述上屏蔽室、所述束下下屏蔽室和所述束下上屏蔽室，利用所述支撑装置便于穿料；所述束下上屏蔽室同所述束下下屏蔽室一同降下时方便电子束引出窗零部件，所述离子泵和所述分子泵产生射线，并通过所述电子枪加速管投射到被辐照材料上，采用这样的屏蔽结构，使得被辐射材料上表面无需设置导向辊，被辐射材料表面有涂布或印刷在未通过电子束时固化，避免了导向辊对被辐射材料上表面的涂布或印刷接触，从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种射线屏蔽结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021922250.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-04
授权号 ：
CN213368209U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
贾朝伟李琦曾利罗德坤
申请人 ：
江苏智研科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市句容市经济开发区科技新城科技大道1号
代理机构 ：
北京挺立专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭建军
优先权 ：
CN202021922250.8
主分类号 ：
H05H7/00
IPC分类号 ：
H05H7/00 H05H5/02
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN213368209U.PDF
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