一种基于双缓冲区的分布式控制器数据库下装结构
授权
摘要
本实用新型提供的一种基于双缓冲区的分布式控制器数据库下装结构，包括核心交换机，核心交换机通过以太网分别连接有控制层接入交换机和应用层接入交换机，控制层接入交换机通过以太网连接有控制器；应用层接入交换机通过以太网连接有至少一个工程师站；其中，工程师站用于编译生产数据库文件，并通过应用层接入交换机将生成的数据库文件下装到控制器；该系统连接结构简单，安装和施工方便；采用了双缓冲区设计，很好的支持了数据库在线下装操作，初始下装和在线下装采用了统一的文件格式，使得控制系统在线下装数据库操作简单可行。
基本信息
专利标题 ：
一种基于双缓冲区的分布式控制器数据库下装结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021944506.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN212391726U
授权日 ：
2021-01-22
发明人 ：
李晓博高海东高少华王宾马乐崔逸群高龙军
申请人 ：
西安热工研究院有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市碑林区兴庆路136号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
贺小停
优先权 ：
CN202021944506.5
主分类号 ：
G05B19/418
IPC分类号 ：
G05B19/418 H04L12/24 G06F8/41 G06F8/61 G06F16/21
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05B
一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/418
全面工厂控制，即集中控制许多机器，例如直接或分布数字控制、柔性制造系统、集成制造系统、计算机集成制造
法律状态
2021-01-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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