纳米抑菌高光膜

授权

摘要

本实用新型公开了纳米抑菌高光膜，包括主体膜层，主体膜层的下端面设置有纳米抑菌层、纳米抑菌层远离主体膜层的一端设置有平整膜层，平整膜层的下端面设置有粘胶层，主体膜层的上端面设置有耐冻抗寒层，耐冻抗寒层远离主体膜层的一端设置有耐磨防刮蹭层。通过在主体膜层上设置的纳米抑菌层、耐冻抗寒层、耐磨防刮蹭层，不仅提高了主体膜层的抑菌耐冻性，而且提高了主体膜层对于外部的耐磨防刮蹭性能，通过在主体膜层与粘胶层之间设置的平整膜层，提高了主体膜层的粘胶面的平整性，保证下端粘胶层与需要粘接的产品表面之间的平整粘接，进而保证粘接稳定性。

基本信息

专利标题：

纳米抑菌高光膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021945102.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-08

授权号：

CN213085870U

授权日：

2021-04-30

发明人：

王欣南

申请人：

苏州新燕高光膜有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市相城区渭塘镇新燕大道89号

代理机构：

苏州国诚专利代理有限公司

代理人：

王丽

优先权：

CN202021945102.8

主分类号：

C09J7/29

IPC分类号：

C09J7/29