一种头戴装备视场测量系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种头戴装备视场测量系统，包括：控制板，用于信息的发送、接收及分析计算；球形穹窿，其内部设有供受试对象佩戴头戴装备进行视场测量的空间，其内球面的经纬线交点上安装有用于提供视场测量所需光点的多个发光件；多个发光件通过线缆电连接于控制板并受控制板的控制点亮或熄灭；反馈应答器，通过导线与控制板电连接，用于反馈受试对象对球形穹窿上光点的应答结果。将视场测量所需的光点设置在球形穹窿的内球面上，由于球形穹窿的球面口径大，球形穹窿的内球面上可以布设的光点数量多，光点在球形穹窿的内球面上的分布范围广，可以扩大头戴装备的视野测量范围，提高视野测量结果的稳定性，可以评价各类头戴装备的视场设计。
基本信息
专利标题 ：
一种头戴装备视场测量系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021963276.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
CN212379000U
授权日 ：
2021-01-19
发明人 ：
吴明磊刘何庆张俊举严松赵彦鹏卜伟平苏芳
申请人 ：
中国人民解放军空军特色医学中心
申请人地址 ：
北京市海淀区阜成路28号
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
王艺涵
优先权 ：
CN202021963276.7
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2021-01-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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