可防止热辐射外泄的高温真空钎焊炉的炉体结构

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摘要

本发明公开了一种可防止热辐射外泄的高温真空钎焊炉的炉体结构，解决了如何防止腔内热辐射外泄，以保证腔内真空高温温度场稳定的问题。在炉胆外套（4）内，等间隔弧度地设置有反射屏固定杆（10），在反射屏固定杆的内侧端，设置有加热钼带支撑架（13），在加热钼带支撑架（13）与炉胆外套（4）之间，设置有圆筒状反射屏（9），在加热钼带支撑架（13）上，设置有环形加热钼带（14）；在钎焊托盘支架（7）的内侧端上，设置有钎焊托盘（8），在钎焊托盘中设置有钎焊半导体器件；转接电极（17）的外侧端与引入电极座（19）上的引入电极（18），电连接，转接电极的内侧端与环形加热钼带（14）电连接。提高了半导体钎焊质量。

基本信息

专利标题：

可防止热辐射外泄的高温真空钎焊炉的炉体结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021982868.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-11

授权号：

CN213003163U

授权日：

2021-04-20

发明人：

靳丽岩唐宏波解永强杨晓东王成君杨雁红

申请人：

西北电子装备技术研究所（中国电子科技集团公司第二研究所）

申请人地址：

山西省太原市万柏林区和平南路115号

代理机构：

山西华炬律师事务所

代理人：

陈奇

优先权：

CN202021982868.3

主分类号：

B23K3/00

IPC分类号：

B23K3/00 B23K3/08 B23K1/008