一种用于pvd加工的挂具
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于pvd加工的挂具，涉及PVD挂具设备领域，包括固定杆，所述固定杆的顶端设置有挂钩，且固定杆的底端设置有螺纹杆，所述固定杆的外壁设置有固定套筒，且固定杆的外壁位于固定套筒的底端设置有支撑板。本实用新型通过设置挂杆、挂架、固定套筒、连接杆、限位槽，转动所有挂杆，使其与支撑板上的限位槽分离，挂杆向上转动时通过连接杆带动转动座在滑槽中上移，并与磁吸块相吸固定，从而使挂杆以及挂架被固定，此方式可将调节角度时多余的挂杆固定在支撑板的上方，然后将需要使用的挂杆向下转动卡合在支撑板上的限位槽中，则挂杆角度调节完成，有效解决了挂具无法根据工件尺寸调节挂架的角度的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于pvd加工的挂具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021984844.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN213142173U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
张红星张小健樊天柱
申请人 ：
昆山市正行电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市千灯镇宏洋路12号4号房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021984844.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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