一种电容器加工用支撑定位装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种电容器加工用支撑定位装置，包括：安装底座，所述安装底座上安装有浸渗支撑定位结构；其中，所述浸渗支撑定位结构包含有：浸渗箱、两对电动升降杆、升降架、网板、密封箱盖、抽真空阀、安装板、真空泵、抽气软管、气压表、进气阀、第一固定板、两对绞座、一对旋转固定器、第二固定板、一对超声波振头、振头控制器以及总控制器；本实用新型涉及电容加工设备技术领域，本案的有益效果为：解决了现有的电解液浸渗设备结构简单，在使用时无法根据不同尺寸的电容对浸渗的高度和位置进行调整，无法保证生产工艺，易在使用时造成电解液没过线圈的问题，造成电容报废，影响生产速度，造成经济损失的问题。

基本信息

专利标题：

一种电容器加工用支撑定位装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021993897.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-14

授权号：

CN213366410U

授权日：

2021-06-04

发明人：

卢洪李正臣

申请人：

重庆市台光电子科技有限公司

申请人地址：

重庆市忠县乌杨新区工业园区标准厂房4号3-5楼

代理机构：

重庆天成卓越专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

谭小容

优先权：

CN202021993897.X

主分类号：

H01G13/00

IPC分类号：

H01G13/00