一种提高脱甲胺后NMP粗品纯度的装置
授权
摘要
本实用新型属于NMP纯化技术领域，具体涉及一种提高脱甲胺后NMP粗品纯度的装置，所述脱甲胺后NMP粗品包括NMP、水和杂质，所述装置包括NMP纯化单元，所述NMP纯化单元包括NMP脱轻工段、NMP精制工段、电子级NMP中间存储工段，所述NMP脱轻工段、NMP精制工段、电子级NMP中间存储工段依次相连；所述脱甲胺后NMP粗品经过NMP脱轻工段处理后，NMP、水、较重的杂质进入NMP精制工段，经过NMP精制工段处理后，NMP进入电子级NMP中间存储工段。本实用新型的有益效果是脱甲胺后NMP粗品(NMP、水、杂质)经过依次经过NMP脱轻工段、NMP精制工段处理，进入电子级NMP中间罐内,对电子级NMP中间罐内NMP检测，其中甲胺含量≤5ppm，水分含量≤0.02％，pH在7‑9之间，色度≤10，完全符合电子级NMP的要求。
基本信息
专利标题 ：
一种提高脱甲胺后NMP粗品纯度的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022011993.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
CN212504671U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
李炳亮宋钊张华黄海洋陈宇
申请人 ：
安徽英特力工业工程技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市包河区宁国南路1185号大宁缤购商业广场11栋15层
代理机构 ：
合肥英特力知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐文军
优先权 ：
CN202022011993.6
主分类号 ：
C07D207/267
IPC分类号 ：
C07D207/267
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D207/00
杂环化合物，含五元环，不与其他环稠合，带1个氮原子作为惟一的环杂原
C07D207/02
只有氢或碳原子直接连在环氮原子上
C07D207/18
环原子间或环原子与非环原子间有1个双键
C07D207/22
有杂原子或有以3个键连杂原子、其中最多以1个键连卤素的碳原子，例如，酯基或腈基，直接连在环碳原子上
C07D207/24
氧或硫原子
C07D207/26
2-吡咯烷酮
C07D207/263
只有氢原子或只含氢和碳原子的基直接连在其他环碳原子上
C07D207/267
只有氢原子或只含氢和碳原子的基，直接连在环氮原子
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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