电容器真空注蜡设备
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摘要

本实用新型公开了电容器真空注蜡设备,包括支撑架和蜡水箱,所述支撑架的上端右侧焊接有残液架,所述残液架的左侧螺栓固定有控制开关,本实用新型残液引导装置由固定孔、镶嵌框、引流槽和围栏组成,镶嵌框通过固定孔螺栓固定有在残液架上,徒手抓住浸蜡盘将其镶嵌放置在镶嵌框上,通过围栏将浸蜡盘四边围住,防止残液流出残液架,残液通过镶嵌框上的引流槽水平倾斜,使残液流进残液架内,通过流进回流孔,使残液重新流回蜡水箱,有益效果是通过残液引导装置使浸蜡盘放置在残液架上使,不会使残液流出残液架,再通过引流槽,使浸蜡盘边缘的残液引流进残液架中,使残液不会流出,节约了对蜡水的使用。

基本信息
专利标题 :
电容器真空注蜡设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022035376.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-17
授权号 :
CN213366399U
授权日 :
2021-06-04
发明人 :
岑强
申请人 :
西安飞秒真空技术有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市高新区锦业路32号锦业时代A1-1712号
代理机构 :
北京棘龙知识产权代理有限公司
代理人 :
谢静
优先权 :
CN202022035376.X
主分类号 :
H01G9/00
IPC分类号 :
H01G9/00  B29C45/03  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器;电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G9/00
电解电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件;其制造方法
法律状态
2021-06-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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