反馈式射流振荡喷嘴

授权

摘要

本实用新型公开了一种反馈式射流振荡喷嘴，包括射流振荡流道，射流振荡流道的内壁设置有出流槽，出流槽自射流振荡流道的出口向靠近射流振荡流道的进口的方向延伸，出流槽的出口、反馈式射流振荡喷嘴的喷嘴出口以及射流振荡流道的出口均连通。上述反馈式射流振荡喷嘴通过在射流振荡流道的出口处设置出流槽，使得出流槽处的深度较大，从而增大了流经出流槽的流量，由于出流槽的出口、喷嘴出口以及射流振荡流道的出口均连通，则增大了沿喷嘴出口的轴线流出的液体流量，从而增大了出流覆盖区域的中间区域的流量，相应地减小了出流覆盖区域两端的流量，有效地提高了反馈式射流振荡喷嘴的出流均匀性。

基本信息

专利标题：

反馈式射流振荡喷嘴

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022047378.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-17

授权号：

CN213557753U

授权日：

2021-06-29

发明人：

宋和平刘学才张明轩

申请人：

北京经纬恒润科技股份有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路14号1幢4层

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

张东梅

优先权：

CN202022047378.0

主分类号：

B05B1/00

IPC分类号：

B05B1/00