一种光学扫描靶点布置工具
授权
摘要
本实用新型提供了一种光学扫描靶点布置工具，包括待测开启件、检测支架、靶点布置单元和若干靶点；所述检测支架具有放置部，放置部的形状与待测开启件的形状相吻合，待测开启件放置于检测支架的放置部上；靶点布置单元设置在待测开启件远离检测支架的一侧方向，靶点布置单元与待测开启件的相对位置保持不变；靶点布置单元上固定设置有若干靶点；其中，靶点布置单元与检测支架或者待测开启件为可拆卸式连接。靶点布置单元可以采用柔性材料或者刚性材料制成。
基本信息
专利标题 ：
一种光学扫描靶点布置工具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022085464.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-22
授权号 ：
CN213208937U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
曾胜郭艳张滴
申请人 ：
武汉维尔笛工程技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武汉经济技术开发区东风三路东合中心D座802-803室
代理机构 ：
武汉红观专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李季
优先权 ：
CN202022085464.0
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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