一种高透性植栽砌块
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摘要

本实用新型旨在于提供一种高透性植栽砌块,此种砌块能够进行绿植的栽种,并且能够快速进行相邻砌块之间的定位,施工便捷。它包括矩形的砌块主体,砌块主体上表面的中部开设有矩形的植栽孔,植栽孔的左侧和右侧分别设置有排水沟,排水沟的内侧开设有导水沟,且导水沟与植栽孔相连通,植栽孔的底部开设有贯穿的渗透孔,在砌块主体的前侧面上设置有两个第一凸台,两个第一凸台分别分布于前侧面的前后两端,砌块主体的后侧面上设置有第二凸台,所述第二凸台位于砌块本体后侧面的中部,且在砌块主体的后侧面上还设置有与所述第一凸台前端形状相一致的第一凹槽,所述砌块主体的前侧面上设置有与所述第二凸台前端形状相一致的第二凹槽。

基本信息
专利标题 :
一种高透性植栽砌块
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022094573.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-22
授权号 :
CN213741193U
授权日 :
2021-07-20
发明人 :
许晓平
申请人 :
鸿翔环境产业有限公司
申请人地址 :
浙江省嘉兴市海宁市硖石街道杨汇桥村杨汇桥7号
代理机构 :
嘉兴海创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
柳伟华
优先权 :
CN202022094573.9
主分类号 :
E02D29/02
IPC分类号 :
E02D29/02  A01G9/02  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物;挡土墙
E02D29/02
挡土墙或防护墙
法律状态
2021-07-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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