补光装置及监控设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种补光装置及监控设备,该装置包括:补光灯本体和透镜组件,补光灯本体包括第一灯珠阵列和第二灯珠阵列,透镜组件包括补光透镜阵列及偏光透镜阵列;补光透镜与第一灯珠阵列的灯珠一一对应设置,补光透镜阵列用于发出第一出射光束,第一出射光束在第一目标区域具有第一光照强度;偏光透镜与第二灯珠阵列的灯珠一一对应设置,偏光透镜阵列背离第二灯珠阵列的一侧设有偏折面,偏折面用于对第二灯珠阵列发出的光线进行偏转,发出第二出射光束,第二出射光束在第二目标区域具有第二光照强度,第二光照强度小于第一光照强度。本实用新型通过补光透镜与偏光透镜的组合,分配补光灯发出的光强,改善监控补光效果。

基本信息
专利标题 :
补光装置及监控设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022104195.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-23
授权号 :
CN212846297U
授权日 :
2021-03-30
发明人 :
王友清吴蓓
申请人 :
浙江宇视科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市滨江区西兴街道江陵路88号10幢南座1-11层、2幢A区1-3楼、2幢B区2楼
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
孟金喆
优先权 :
CN202022104195.8
主分类号 :
G03B15/02
IPC分类号 :
G03B15/02  G03B15/06  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备;利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备;以及有关的附件
G03B15/00
摄影的特殊操作;所用的设备
G03B15/02
场面照明
法律状态
2021-03-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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