一种高隔离度LC双工器
授权
摘要
本实用新型公开了一种高隔离度LC双工器，包括双工器主体，所述双工器主体顶部的四角处皆设置有第一缓冲仓，所述第一缓冲仓顶部的中间位置处设置有第一缓冲块，且第一缓冲块的底部延伸至第一缓冲仓的内部，所述第一缓冲块的底部设置有第一弹簧，所述第一缓冲块的顶部设置有第一防护板，所述双工器主体底部的四角处皆设置有第二缓冲仓，所述第二缓冲仓底部的中间位置处设置有第二缓冲块；本实用新型通过安装板、安装块、滑块和滑槽之间的相互配合，而可将双工器主体进行快速的拆装，从而使得该装置可根据需求进行移动使用或者固定使用，进而提高该装置的适用性。
基本信息
专利标题 ：
一种高隔离度LC双工器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022119632.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
CN212783720U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
胡道甫
申请人 ：
上海垦博电子科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区枫泾镇环东一路65弄2号1421室
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙永智
优先权 ：
CN202022119632.3
主分类号 ：
H01P1/20
IPC分类号 ：
H01P1/20 F16F15/067 F16F15/02
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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