一种中段涂覆层浸蚀装置
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种中段涂覆层浸蚀装置，涉及光纤剥皮装置领域，所述浸蚀装置包括：浸蚀台，所述浸蚀台的上表面向下凹陷形成容纳溶解液的浸蚀槽，所述浸蚀槽的至少一侧向下凹陷形成容纳缓冲液的缓冲槽，所述浸蚀槽与所述缓冲槽之间通过所述浸蚀槽的槽体侧壁分隔开。通过化学方法腐蚀涂覆层，此方法可有效避免光纤包层受损，保证光纤强度和质量。通过加热装置升温加快腐蚀过程，提高腐蚀效率。通过在浸蚀槽的两侧设置容纳缓冲液的缓冲槽，可防止溶解液渗入浸蚀槽两侧的涂覆层，导致剥除端口的涂覆层参差不齐及脆弱易脱落，设置缓冲槽可确保端口的质量，解决端口质量不佳的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种中段涂覆层浸蚀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022135270.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213210533U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
杨康戴立伟李跃霖骆崛逵
申请人 ：
武汉锐科光纤激光技术股份有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖开发区高新大道999号
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
吕伟盼
优先权 ：
CN202022135270.7
主分类号 ：
G02B6/245
IPC分类号 ：
G02B6/245
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/245
在耦合之前去除光导的保护层
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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