一种冲压件浅层渗碳处理装置
授权
摘要
本实用新型属于渗碳处理技术领域,且公开了一种冲压件浅层渗碳处理装置,包括渗碳炉体,所述渗碳炉体的外表壁上端安装有控制器,且渗碳炉体的顶端安装有炉盖,所述炉盖的顶端一侧连接有氨气通入管,所述氨气通入管上安装有流量计和第一阀门,所述流量计位于靠近炉盖的一端,所述渗碳炉体上安装有二氧化碳传感器,且渗碳炉体的外表壁对称固定有安装板,所述安装板的外表壁开设有插槽,本实用新型可实时监控氨气流量,且可在后续处理阶段关闭氨气通道,使冲压件表面氮浓度降低,减少表面脆性,保证后续校平无裂纹,进而提高产品质量,此外还可实时监测二氧化碳含量,以保证碳量,进而实现炉内碳势的提高。
基本信息
专利标题 :
一种冲压件浅层渗碳处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022142456.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-25
授权号 :
CN213086082U
授权日 :
2021-04-30
发明人 :
吴卫卿华勇高佩
申请人 :
重庆捷科隆金属科技有限公司
申请人地址 :
重庆市江津区双福工业园拆迁安置楼A区1幢2-2号
代理机构 :
重庆启恒腾元专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
黎志红
优先权 :
CN202022142456.5
主分类号 :
C23C8/22
IPC分类号 :
C23C8/22
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗;材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法,例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/08
仅用一种元素的
C23C8/20
渗碳
C23C8/22
黑色金属表面的
法律状态
2021-04-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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