一种透过率线性变化的滤光片
授权
摘要
本实用新型提供一种透过率线性变化的滤光片，包括基层和堆叠在基层上的膜系，膜系的膜系结构包括八至二十个法布里‑帕罗腔，法布里‑帕罗腔的最后一层作为连接层级联下一个法布里‑帕罗腔；每个法布里‑帕罗腔的最后一层为非四分之一光学厚度的折射率层。本实用新型提供的一种透过率线性变化的滤光片，在特定的波长范围内的插损或透过率随波长线性变化，可用于波长的识别。本实用新型在膜系结构和膜层厚度以及监控方式上进行了改进，可实现高高精度的线性变化光谱曲线。
基本信息
专利标题 ：
一种透过率线性变化的滤光片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022185561.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN213581424U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
苏炎李昱陈居凯
申请人 ：
苏州众为光电有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区向街8号
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人 ：
孔凡玲
优先权 ：
CN202022185561.7
主分类号 ：
G02B5/28
IPC分类号 ：
G02B5/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
G02B5/28
干涉滤光片
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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