气固分离结构、进料装置和电化学沉积设备
授权
摘要
本实用新型提供一种气固分离结构，涉及显示产品的生产领域，其中，气固分离结构包括：进料管路，所述进料管路上设置有第一阀门，所述进料管路包括相连的第一进料部和第二进料部；出料管路，所述出料管路具有相对的第一开口和第二开口，所述第二进料部从所述第一开口伸入至所述出料管路中；所述第二进料部与所述出料管路之间形成排气通道，所述出料管路与所述第二进料部相对的部分设置有排气孔，所述排气通道与所述排气孔连通。本实用新型还提供一种进料装置和电化学沉积设备。本实用新型可以改善进入出料管路中的气体干扰药粉投放的问题。
基本信息
专利标题 ：
气固分离结构、进料装置和电化学沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022189882.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN214004828U
授权日 ：
2021-08-20
发明人 ：
孙少东闫俊伟袁广才张国才董士豪张丽蕾高浩然付文悦王成飞潘小杰
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
魏艳新
优先权 ：
CN202022189882.4
主分类号 ：
C25D17/00
IPC分类号 ：
C25D17/00 C25D21/00 C25D21/10 C25D21/02 B01D46/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2021-08-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
