高纯钌靶表面清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了高纯钌靶表面清洗装置，包括支架、液压缸、升降板、置物框和工作箱，所述液压缸固定连接在支架的上侧内壁上，所述升降板安装在液压缸的下端，所述置物框对接在升降板的下端，所述工作箱固定连接在支架的下侧内壁上，所述工作箱的内壁固定连接有滤网，所述工作箱的内壁且靠近滤网的下端固定连接有储料箱，所述储料箱的左右两侧安装有喷射机构，所述支架的侧壁上安装有干燥机构。该高纯钌靶表面清洗装置在使用时，通过滤网、导料板和储料箱等结构的配合使用，从而达到了冲洗方便的效果，通过弹簧、活动板和导热块等结构的配合使用，从而达到了干燥充分的效果。
基本信息
专利标题 ：
高纯钌靶表面清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022202127.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN213558707U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
王永超赵泽良
申请人 ：
河南东微电子材料有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市航空港区新港大道与人民路交叉口智能终端手机产业园B区12号楼1、2层
代理机构 ：
郑州浩翔专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李伟
优先权 ：
CN202022202127.5
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00 F26B23/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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