一种平板瓦
授权
摘要
本实用新型公开了一种平板瓦，包括平板瓦主体和设置在平板瓦主体上的导流机构，平板瓦主体的一侧设置有第一拼接部，平板瓦主体的另一侧设置有第二拼接部，第一拼接部的厚度和第二拼接部的厚度之和等于平板瓦主体的厚度，第一拼接部的顶部低于平板瓦主体的顶部，第二拼接部的顶部和平板瓦主体的顶部相齐平；导流机构包括依次连接的分流块、整流块和引流块，以及设置在引流块底部的引流条和导流块，分流块、整流块、引流块、引流条和导流块的顶部高于平板瓦主体的顶部。本实用新型结构简单，设计合理，以适应降雨量大，提高平瓦片排水的能力，避免相邻平板瓦拼接缝处雨水淤积发生溢水渗入瓦缝造成漏水的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种平板瓦
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022217987.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN213539496U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
马明亮权宗刚唐玉娇王科颖浮广明祝婷张云宁
申请人 ：
西安墙体材料研究设计院有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔区长安南路6号
代理机构 ：
西安创知专利事务所
代理人 ：
卫苏晶
优先权 ：
CN202022217987.6
主分类号 ：
E04D1/12
IPC分类号 ：
E04D1/12 E04D13/04 E04D1/36
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04D
屋面覆盖层；天窗；檐槽；屋面施工工具
E04D1/00
用瓦、石板瓦、木瓦或其他小型屋面构件制作的屋面
E04D1/12
平瓦或木瓦形状的屋面构件，即具有平的外表面
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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